System for electron beam lithography

Předmět plnění:
- dodávka systému pro vytváření libovolných tvarů s rozlišením v řádu alespoň 20 nm pomocí fokusovaného svazku elektronů na povrchu pokrytém elektronově citlivým filmem
- systém musí dále umožňovat selektivní odstranění exponovaných nebo neexponovaných oblastí povrch
- podrobná specifikace v ANJ je v příloze

Hodnoticí kritéria:
- cena

Lokalita:
- Praha

Termín:
- na dobu 11 měsíců

Přílohy: