System for electron beam lithography - REISSUE

Předmět plnění:
- dodávka systému pro vytváření libovolných tvarů s rozlišením v řádu alespoň 20 nm pomocí fokusovaného svazku elektronů na povrchu pokrytém elektronově citlivým filmem
- systém musí dále umožňovat selektivní odstranění exponovaných nebo neexponovaných oblastí povrchu

Hodnoticí kritéria:
- cena

Lokalita:
- Praha

Termín:
- od 21.11.2024 na 11 měsíců

Přílohy:

Příloha č. 1.docx
Příloha č. 2.docx
Příloha č. 3.docx
Příloha č. 4.docx
Příloha č. 5.docx
Příloha č. 6.pdf
Příloha č. 7.pdf
Příloha č. 8.crt

Kontakt na zadavatele

Pro zobrazení kontaktu se přihlaste.

Máte zájem o kontakt na zadavatele a nemáte registraci? Můžete zaregistrovat vaši firmu a oslovit zadavatele ihned. K zobrazení kontaktu je potřeba mít aktivní službu Veřejné zakázky.

Registrovat firmu

Chybí vám informace?

zavolejte 601 601 581

Předpokládaná hodnota:

25 275 000 Kč

Datum vyhlášení zadavatelem:

3.10.2024

Datum pro podání nabídky:

4.11.2024 - 30 dní do ukončení

Datum pro získání informací:

zadavatelem neuvedeno

Datum prohlídky: