Systém pro depozici atomárních vrstev (ALD)

Předmět plnění:
- dodávka systému pro depozici atomárních vrstev (ALD), který bude využíván a laboratoři CEITEC Nano
- zařízení nanáší (deponuje) tenké vrstvy po monovrstvách na různé typy materiálů
- umožní deponovat oxidy (Al2O3, TiO2, SiO2), nitridy (AlN,TiN) i čisté kovy (Pt, Fe)
- nanášené vrstvy budou mít vysokou homogenitu v tloušťce a velmi dobře pokrývat strukturované a porózní materiály

Hodnoticí kritéria:
- nabídková cena 80 %
- možnost volit mezi dvěma pracovními módy v případě použití zemněné mřížky stínící plazma: přímým (na substrát teče proud iontů z plazmatu) a vzdáleným (remote) 7 %
- součástí depoziční komory jsou dvířka umožňující vkládat přímo do komory vzorky větších rozměrů, tj. vyšší než 20 mm 5 %
- dodavatel poskytne depoziční parametry a garantuje procesy depozice na dodávaném zařízení pro V2O5, Fe2O3, La2O3 3 %
- možnost rozšířit počet přípojných míst kapalných prekursorů nad 6 5 %

Lokalita:
- okres Brno-město

Termín:
- do 8 měsíců ode dne účinnosti smlouvy

Přílohy: